- Systèmes RTP
- Système RTP et RTCVD
AS-Master
Système RTP et RTCVD
Concernant ce produit
Applications
Système RTP/RTCVD polyvalent de 200 mm, de la recherche à la production. De température ambiante jusqu’à 1450 °C jusqu’à 10-6 Torr. Capacités RTCVD étendues (en option).
La chambre à parois froides, associée à la capacité de recuit pulsé, constitue une solution unique pour le recuit des substrats thermosensibles.
- Recuit thermique rapide (RTA)
- Recuit par implantation
- Recuit par contact ohmique (III-V et SiC)
- Carbonisation du silicium
- Oxydation thermique rapide (RTO)
- Nitruration thermique rapide (RTN)
- Diffusion, densification et cristallisation
- Sélénisation
- CVD thermique rapide (Si poly, SiO₂, SiNx)
- Recuit thermique des polymères
Spécifications
Système RTP idéal pour les applications de production
L’AS-Master est le système RTP idéal pour les applications de production grâce à son système de chargement cassette à cassette. La version à chargement manuel est idéale pour le développement de procédés.
Le processeur thermique rapide Annealsys AS-Master est un outil très polyvalent permettant un large éventail de procédés, du recuit au dépôt chimique en phase vapeur thermique rapide.
La version haute température permet des recuits jusqu’à 1450 °C et le développement de nouveaux procédés. La technologie de chambre à parois froides assure une reproductibilité élevée des procédés dans un environnement ultra-propre et exempt de contamination.
La plage de température étendue, les performances du vide (de l’atmosphère à 10-6 Torr) et la capacité de mélange de gaz rendent l’AS-Master adapté à une large gamme de procédés RTP et RTCVD.
Des versions avec sas de chargement et module d’outils groupés sont disponibles pour une meilleure propreté de l’environnement de procédé. Le chargement manuel et les versions cassette à cassette rendent le système idéal pour le développement de procédés et facilitent le transfert vers la production.
Caractéristiques
Performances de recuit infrarouge température/durée les plus élevées du marché
La version haute température de l’AS-Master offre les performances de recuit infrarouge température/durée les plus élevées du marché.
- Plage de température : de la température ambiante à 1 450 °C (selon la version)
- Rampe jusqu’à 200 °C/s (selon la version)
- Mélange de gaz avec régulateurs de débit massique
- Plage de vide : de l’atmosphère à 10-6 torr
Options
Possibilité d’installation pour les procédés RTCVD.
La fenêtre à quartz de contrôle de température et l’option de rotation du substrat associée à une chambre de traitement spéciale permettent la réalisation de procédés RTCVD.
- Configurations du four et du chargement
- Suscepteurs revêtus de graphite et de carbure de silicium
- Pompe à vide primaire et turbopompe
- Régulation automatique de la pression avec vanne papillon
- Système de refroidissement rapide
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