Produits
Systèmes DLI/CVD
Le DLI-CVD est la technologie la plus performante pour le dépôt de nouveaux matériaux. Il offre des capacités de vaporisation uniques et permet de déposer la plupart des éléments du tableau périodique.
Applications : guides d’ondes optiques, revêtements optiques, condensateurs MIMS, circuits intégrés micro-ondes, supraconducteurs, mémoires ferroélectriques, revêtements bioactifs et biocompatibles, barrières thermiques et anticorrosion, microbatteries, etc.
Capacités de vaporisation uniques
Systèmes multi-procédés
Annealsys développe des procédés de dépôt d’oxydes multi métalliques, de couches métalliques et de nitrures de métaux de transition, ainsi que de matériaux 2D tels que le graphène, le nitrure de bore hexagonal et les dichalcogénures de métaux de transition (TMD). Nos machines sont disponibles pour des substrats jusqu’à 50 mm, 100 mm ou 200 mm de diamètre.
Les petites pièces 3D (quelques centimètres) peuvent être traitées dans la machine de 50 mm. Nos systèmes de dépôt DLI offrent des capacités multiprocessus au sein d’une même chambre de traitement : DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD, CVD par pression pulsée et même traitement thermique rapide in situ (RTP) pour le MC-050.
Gamme DLI-CVD
Systèmes innovants de
DLI/CVD & DLI/ALD.
MC-050
Système DLI-CVD
2 pouces.
Le MC-050 est un réacteur DLI-CVD de 2 pouces destiné à la R&D. Le four à lampe infrarouge et la conception du système permettent la réalisation de plusieurs procédés dans la même chambre : CVD, ALD, RTP et RTCVD.
MC-100
Système DLI-CVD
100mm.
Le système Annealsys MC-100 est conçu pour les procédés DLI-CVD et DLI-ALD. Il est équipé d’un réacteur vertical à paroi basse température et peut accueillir différents types d’appareils de distribution et de vaporisation de liquide.
MC-200
Système DLI-CVD
200mm.
Le système Annealsys MC-200 est conçu pour les procédés DLI-CVD et DLI-ALD. Il est équipé d’un réacteur à paroi verticale basse température et peut accueillir différents types d’appareils de distribution et de vaporisation de liquide.
Systèmes DLI/CVD
Pourquoi choisir
Nos systèmes DLI/CVD.
La technologie d’injection directe de liquide offre une flexibilité optimale pour l’utilisation d’une large gamme de précurseurs chimiques pour le développement de nouveaux matériaux. Nos machines sont équipées d’équipements de distribution de liquide de pointe pour une manipulation optimisée des précurseurs chimiques.
Grande capacité multi-process
Les systèmes DLI d’Annealsys prennent en charge une grande variété de procédés de dépôt : DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD, CVD à pression pulsée, ainsi que RTP et RTCVD in situ, le tout dans la même chambre de traitement.
Compatibilité étendue des précurseurs
Ces systèmes peuvent traiter des précurseurs à faible pression de vapeur, des produits chimiques thermiquement instables et des matériaux dilués ou sensibles à l’air. Cette polyvalence élargit la palette de produits chimiques utilisables.
Contrôle fin du flux précurseur
Les vaporisateurs DLI permettent un contrôle précis du débit de liquide, une commutation rapide entre les phases de vaporisation, un volume mort minimal et une utilisation efficace des précurseurs. Cela permet un contrôle précis de l’interface et une consommation réduite de produits chimiques.
Faible COO et entretien facile
Ces systèmes sont conçus pour nécessiter peu d’entretien, avec de faibles coûts d’exploitation et une grande fiabilité, ce qui les rend attractifs pour une utilisation à long terme tant en R&D qu’en production.
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Pour toute information complémentaire, nos équipes sont à votre disposition. N’hésitez pas à nous contacter pour en savoir plus sur nos produits et services.