- Systèmes DLI-CVD
- Système DLI CVD/ALD 200 mm
MC-200
Système DLI CVD/ALD 200 mm
Concernant ce produit
Applications
Le MC-200 est un système de dépôt polyvalent permettant de réaliser des dépôts chimiques en phase vapeur organométallique (MOCVD) et des dépôts par couches atomiques (ALD) dans la même chambre de traitement.
- Oxydes simples et multi métalliques
- Métaux, nitrures et alliages
- Semi-conducteurs III-V à large bande interdite
- Matériaux 2D et 3D
Spécifications
Pour les applications sensibles à l’air, le MC-200 peut recevoir un sas de chargement motorisé à plaquette unique pour isoler la chambre de traitement de l’atmosphère.
L’Annealsys MC-200 est un réacteur CVD à paroi thermorégulée de 200 mm, spécialement développé pour répondre aux exigences des unités de recherche et développement pour les procédés MOCVD.
Les vaporisateurs à injection directe de liquide (DLI) assurent un contrôle parfait du flux de précurseur et permettent l’utilisation de précurseurs chimiques dilués à faible pression de vapeur. La commutation rapide des flux de vapeur de précurseur, associée à la vanne de dérivation, assure un contrôle parfait de l’interface pour le dépôt de nanolaminés.
Une option plasma capacitif permet de réaliser des dépôts PE-CVD et PE-ALD pour réduire la température de dépôt.
Le système est composé de plusieurs éléments assemblés par brides. Il est ainsi très polyvalent, facile à nettoyer et facilement modifiable pour des applications personnalisées.
Caractéristiques
La conception simple de la pomme de douche et du réacteur le rend adapté à l’utilisation de précurseurs chimiques à faible vapeur et thermiquement instables.
- Plage de température : de la température ambiante à 800 °C
- Jusqu’à 4 vaporisateurs
- Mélange de gaz avec régulateurs de débit massique
- Plage de vide : de l’atmosphère à 10-3 torr
Options
Le MC-200 peut être équipé d’un support de substrat à plasma capacitif pour les procédés PE-CVD et PE-ALD.
- Plasma capacitif
- Pompe à vide primaire, turbopompe
- Chargement par sas à vide motorisé
- Kit ALD pour la distribution de vapeur d’eau
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