- Systèmes DLI-CVD
- Système de dépôt DLI-CVD et DLI-ALD
MC-100
Système de dépôt DLI-CVD et DLI-ALD
Concernant ce produit
Applications
Le MC-100 est un système de dépôt par injection directe de liquide de 100 mm (4 pouces) permettant d’effectuer des dépôts CVD, ALD et CVD à pression pulsée dans la même chambre de traitement. Ses applications incluent l’épitaxie de couches d’oxydes comme LiNbO3.
- Oxydes simples et multimétalliques
- Métaux, nitrures et alliages
- Semi-conducteurs III-V à large bande
- Matériaux 2D et 3D
Spécifications
Le MC-100, équipé d’un dispositif de chauffage rotatif du substrat et de la possibilité de régler la hauteur du substrat à l’intérieur du réacteur, assure une meilleure uniformité des couches minces.
Le système Annealsys MC-100 est un réacteur DLI-CVD / DLI-ALD de 100 mm, conçu pour les applications de recherche et développement.
La chambre de procédé permet de réaliser les procédés CVD et ALD dans la même chambre.
Les vaporisateurs à injection directe de liquide (DLI) assurent un contrôle parfait du flux de précurseur et permettent l’utilisation de précurseurs chimiques dilués à faible pression de vapeur. La commutation rapide des flux de vapeur de précurseur, associée à la vanne de dérivation, assure un contrôle parfait de l’interface pour le dépôt de nanolaminats.
Le panneau liquide automatisé a été optimisé pour réduire la consommation de précurseurs chimiques. La conception sans volume mort permet un rinçage complet pour faciliter le changement des produits chimiques et le remplissage des réservoirs de précurseurs en boîte à gants.
Caractéristiques
Le système MC-100 a été développé pour des applications de recherche nécessitant peu de maintenance et permettant un changement aisé de chimie pour le dépôt de différents types de couches.
- Plage de température : de la température ambiante à 800 °C
- Jusqu’à 4 vaporisateurs
- Mélange de gaz avec régulateurs de débit massique
- Plage de vide : de l’atmosphère à 10-3 torr
Options
Annealsys a développé des panneaux liquides de pointe pour la manipulation de précurseurs chimiques sensibles à l’air
- Pompe à vide primaire, pompe turbo
- Chargement par sas à vide motorisé
- Kit ALD pour la distribution de vapeur d’eau
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